Patent Number | CN110651786B |
Status | 已授權 Granted |
一种太阳光敏感型除草剂纳米囊及其制备方法和应用 | |
2021-09-03 | |
Application Number | CN201810700314.0 |
Application Date | 2018-06-29 |
Rights Holder | 澳门大学 |
王瑞兵; 高成; 李铭源; 许贝文 | |
Date Available | 2021-09-03 |
Country | 中国 China |
Abstract | 一种太阳光敏感型除草剂纳米囊及其制备方法和应用,涉及超分子药物载体技术领域。太阳光敏感型除草剂纳米囊主要是由葫芦脲、甲基紫晶、4‑己基偶氮苯自组装形成的纳米囊负载除草剂形成的,除草剂纳米囊能够响应太阳光照刺激而释放出被包裹的除草剂,该太阳光响应型除草剂纳米囊为新型“绿色除草剂”,对使用者安全无害、对环境友好,且具有较好的除草效果;该太阳光敏感型除草剂纳米囊的制备方法是将葫芦脲、甲基紫晶和除草剂溶解于水中;滴加4‑己基偶氮苯的有机溶剂溶液,并搅拌;在水中透析除去有机溶剂,该工艺简单。太阳光敏感型除草剂纳米囊的应用,将除草剂纳米囊的水溶液喷洒于植物表面,并经太阳光照射,可达到除草效果。 |
Language | 中文Chinese |
Open (Notice) Number | CN110651786B |
IPC Classification Number | A01N25/28 ; A01N43/40 ; A01N57/20 ; A01N37/22 ; A01N43/90 ; A01P13/00 |
CPC Classification Number | A01N25/28 ; A01N37/22 ; A01N43/40 ; A01N43/90 ; A01N57/20 |
Patent Agent | 魏彦 |
Agency | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 |
Document Type | Patent |
Collection | University of Macau |
Recommended Citation GB/T 7714 | 王瑞兵,高成,李铭源,等. 一种太阳光敏感型除草剂纳米囊及其制备方法和应用. CN110651786B[P]. 2021-09-03. |
APA | 王瑞兵., 高成., 李铭源., & 许贝文 (2018-06-29). 一种太阳光敏感型除草剂纳米囊及其制备方法和应用. |
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